Héichqualitativt Wäisst CAS 7721-01-9 TaCl5 Pulver Präis TaCl5 Pulver Pulver
| TaCl5 Pulver | Produktnumm | Tantalpentachlorid; Tantal(V)chlorid; Tantalchlorid |
| Formel | TaCl5 | |
| CAS-Nr. | 7721-01-9 | |
| Dicht | 3,682 g/cm3 | |
| Schmelzpunkt | 221-235°C | |
| Kachpunkt | 242℃ | |
| Ausgesinn | wäisst Kristall oder Pulver | |
| Rengheet | 99,5%-99,99% | |
| Molekulargewiicht | 358,21 | |
| Léislechkeet | Léislech an wasserfreien Alkohol, Schwefelsäure a Kaliumhydroxid | |
| Pak | 1 kg/Fläsch, oder no de Bedierfnesser vum Client 10 kg/Trommel |
Spezifikatioun vun Tantalchlorid
| Produktnumm: | Tantal (V) Chlorid | CAS-Nummer: | 7721-01-9 | |
| Analysegerät | TG328A-SCALES;D/max-2550UBXRD;ICP-AES | |||
| Qualitéit | 99,95% Minutten | Quantitéit: | 500 kg | |
| Charge Nr. | 2023123006 | MF | TaCl5 | |
| Datum vun der Fabrikatioun: | 30. Dezemberth, 2023 | Datum vum Test: | 30. Dezemberth, 2023 | |
| Parameteren | Spezifikatioun | Resultater | ||
| Ausgesinn | Wäisst Glaskristall oder Pulver | Konform | ||
| Rengheet | ≥99,95%min | >99,95% | ||
| OnreinheetInhaltMaximal(%) | Fe | Onreinheet 0,05 Gew.-% max. | 0,0010 | |
| Al | 0,0010 | |||
| Cu | 0,003 | |||
| Mo | 0,0008 | |||
| Si | 0,0005 | |||
| Mg | 0,0003 | |||
| Ca | 0,0002 | |||
| Ni | 0,005 | |||
| Schlussfolgerung: | Halt Iech un den Entreprisestandard. | |||
| Bemierkungen: | 1. Nom Gebrauch, w.e.g. d'Verpakung zoumaachen. Wann Dir d'Produkt opmaacht, kënnt et an d'Loft a Kontakt, wouduerch Smog entsteet, d'Loft isoléiert an den Niwwel verschwënnt.2. D'Produkt weist Säure wann et a Kontakt mat Waasser kënnt. | |||
Applikatiounvun Tantalchlorid
Ferroelektresch Dënnschichten, organesch reaktiv Chloréierungsmëttel, Tantaloxidbeschichtungen, Virbereedung vun Tantalpulver mat héijem CV, Superkondensatoren, etc.
1. Bildt isoléierend Schichten mat staarker Haftung an enger Déckt vun 0,1 μm op der Uewerfläch vun elektronesche Komponenten, Hallefleederkomponenten, Titan- an Metallnitridelektroden, a Metallwolframuewerflächen, an huet eng héich dielektresch Rate. D'Déckt ass 0,1 μm, an d'dielektresch Rate ass héich.
2. An der Chlor-Alkali-Industrie, der elektrolytescher Kupferfolie, der Sauerstoffindustrie, der Recycling vun der elektrolytescher Anodenuewerfläch an der Ofwaasserindustrie, souwéi duerch d'Mëschung vun Rutheniumverbindungen a Platinverbindungen, gëtt e leetfäege Oxidfilm geformt, d'Foliehaftung verbessert an d'Liewensdauer vun der Elektrode ëm méi wéi 5 Joer verlängert. D'Produkt gëtt zënter méi wéi 5 Joer benotzt.
3. Virbereedung vun ultrafeinem Tantalpentoxid.
4. An der Medizin benotzt, Titananodematerial, Rohmaterial vu purem Tantalmetall, benotzt als Chloréierungsmëttel vun organesche Verbindungen, chemesch Zwëschenprodukter an der Virbereedung vun Tantal.
-
Detailer kuckenCAS 1314-61-0 Ta2O5 99% -99.95% Tantal Pentoxi...
-
Detailer kuckenCAS Nr. 12033-62-4 99,5% Tantalnitrid TaN...
-
Detailer kuckenFabrécksliwwerung cas 12070-06-3 Tantalkarbid ...
-
Detailer kuckenhéich Rengheet 99% -99,95% Tantalmetallpulver p ...
-
Detailer kuckenHéich Rengheet 99,5% Tantaldiborid oder Borid P...
-
Detailer kuckenHéichqualitativ Wäiss CAS 7721-01-9 Tantal Chlor ...
-
Detailer kuckenLanthanum Lithium Tantal Zirconat | LLZTO po...
-
Detailer kuckenTantalchloridpulver | TaCl5 | CAS 7721-01-...
-
Detailer kuckenTantalchlorid | TaCl5 | CAS 7721-01-9 | China ...
-
Detailer kuckenTantaloxid | Ta2O5 Pulver | héich Rengheet 99....















