Hafniumtetrachlorid | HfCl4-Pulver | CAS 13499-05-3 | Fabréckspräis

Kuerz Beschreiwung:

Hafniumtetrachlorid huet wichteg Uwendungen als Virleefer vun Hafniumoxid, Katalysator fir organesch Synthese, nuklear Uwendungen an Dënnschichtoflagerung, wat seng Vielfältegkeet a Wichtegkeet a verschiddene technologesche Beräicher ënnersträicht.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Schéckt eis eng E-Mail

Produktdetailer

Produkt Tags

Produktbeschreiwung

Kuerz Aféierung

Produktnumm: Hafniumtetrachlorid
CAS-Nr.: 13499-05-3
Verbindungsformel: HfCl4
Molekulargewiicht: 320,3
Ausgesinn: Wäisst Pulver

Spezifikatioun

Artikel	Spezifikatioun
Ausgesinn	Wäisst Pulver
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Applikatioun

Hafniumdioxid VirleeferHafniumtetrachlorid gëtt haaptsächlech als Virleefer fir d'Produktioun vun Hafniumdioxid (HfO2) benotzt, e Material mat exzellenten dielektreschen Eegeschaften. HfO2 gëtt wäit verbreet an High-k-Dielektrikum-Applikatioune fir Transistoren a Kondensatoren an der Hallefleederindustrie benotzt. HfCl4 ass essentiell bei der Fabrikatioun vun fortgeschrattenen elektroneschen Apparater wéinst senger Fäegkeet, dënn Schichten aus Hafniumdioxid ze bilden.
Katalysator fir organesch SyntheseHafniumtetrachlorid kann als Katalysator fir verschidden organesch Synthesereaktiounen, besonnesch Olefinpolymerisatioun, benotzt ginn. Seng Lewis-Säureeegeschafte hëllefen, aktiv Zwëschenprodukter ze bilden, wouduerch d'Effizienz vu chemesche Reaktiounen verbessert gëtt. Dës Uwendung ass wäertvoll bei der Produktioun vu Polymeren an aner organesche Verbindungen an der chemescher Industrie.
Nuklear UwendungWéinst sengem héije Querschnitt vun der Neutronenabsorptioun gëtt Hafniumtetrachlorid wäit verbreet an nuklearen Uwendungen agesat, besonnesch a Kontrollstangen vun Atomreaktoren. Hafnium kann effektiv Neutronen absorbéieren, dofir ass et e gëeegent Material fir de Spaltungsprozess ze reguléieren, wat hëlleft d'Sécherheet an d'Effizienz vun der Atomkraaftwierk ze verbesseren.
DënnfilmoflagerungHafniumtetrachlorid gëtt a chemeschen Dampfoflagerungsprozesser (CVD) benotzt fir dënn Schichten aus Hafnium-baséierte Materialien ze bilden. Dës Schichten si wesentlech a verschiddenen Uwendungen, dorënner Mikroelektronik, Optik a Schutzbeschichtungen. D'Fäegkeet, eenheetlech, héichqualitativ Schichten ofzesetzen, mécht HfCl4 wäertvoll a fortgeschrattene Produktiounsprozesser.