Hafnium Tetraschlorid | Hfcl4 Pulver | Cas 13499-05-3 | Fabrice

Hafnium Tetraschlorid | Hfcl4 Pulver | Cas 13499-05-3 | Fabréckspräis forméiert Bild

Kuerz Beschreiwung:

D'Hafland Tetraschlatsch huet wichteg Uwendungen als e Passazallagen am Hurnium, klassifizéiert fir Bio -ntchligungen, Halfléisungen, Halflänner, an Déieren a verschiddene Filmer, Highlights, an verschiddene technologeschen Felder.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Schéckt E-Mail un eis

Promrat Detail

Produktiounsnagéieren

Produkt beschreiwung

Kuerz Aféierung

Produktnumm: Hafium Tetrachlorid
Cas nee.: 13499-05-3
Compound Formel: HFC4
Molekulär Gewiicht: 320.3
Erscheinung: Wäiss Pudder

Spezifizéierung

Artikel iwwert d'Säit	Spezifizéierung
Ergesetzung	Wäiss Pudder
HFC4 + ZRCL4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤ 25.0ppm

D'Applikatioun

Hafnium Dioxide Präzustor: Hafnium Tetrachlorid ass haaptsächlech als Virgänger fir Hafiumhoxid ze produzéieren (HFO2), e Material mat exzellente diselektresche Properties. HFO2 gëtt wäit an héich-k Diverektriker fir Transistors a Kapazitéit an der anerer HFCL4 ass essentiell an der Fabrikatioun vun der fortgeschratter elektronescher Apparater wéinst senger Fäegkeet fir dënn Filmer vun Hafniumhoxid ze bilden.
Organesch synthesis Catalyst: Hafnium Tetrachlorid kann als Katalysator fir verschidde Bio-synthes d'Reaktiounen benotzt ginn, besonnesch OleStin Polymeriséierung. HUNN LEWIS Säure Eegeschaftunge hëllefen aktiv Tëschefäll ze bilden, doduerch d'Effizienz vu chemeschen Reaktiounen verbesseren. Dës Applikatioun ass besser an der Produktioun vu Collmermen an enger ganzer Bio-Verbindung an der chemescher Industrie benotzt.
Nuklear Applikatioun: Duerch dem High Usustoance Ausdrock vum Haferium, Hurnium Tetrachlanes gëtt wäit an den Amentar ugefallen, besonnesch am Centlearen vun Atomskraaft. Den Hafnium kann effektiv nationalen absorbéieren, sou datt et e passender Material fir d'Verlängerungssquête regéiere, déi d'Reuniouns- vun Atomen produzéiert ginn.
Dënn Filmverbrauch: Hafnium Tetrachlorid gëtt an chemesch Damplaatz (CVD) Prozesser benotzt fir dënn Filmer vun Hafnium-baséiert Materialien ze bilden. Dës Filmes sinn der valentionellt MikroeSräkteren, insetze mikorentreiwlechen, Optik, a schützen Statenë vir. D'Fäegkeet Uniform ze depodéieren, héichwäerteg Filmer mécht HFCL4 wäertvoll a fortgeschratt Fabrikatiounsprozesser.